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真空设备：
物理气相沉积（PVD）
离子束沉积系统
组合离子束沉积系统
多阴极溅镀系统
组合溅镀系统
集群溅镀系统
蒸镀系统
激光烧蚀系统
滚涂系统
CIGS集群溅镀系统
化学气相沉积（CVD）
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）
金属有机化学气相沉积（MOCVD）
原子层沉积（ALD）
蚀刻机
螺旋形谐振器
等离子-反应离子蚀︾刻机（ICP-RIE）
中性束蚀刻机
离子束蚀刻机
离子束铣
AMOLED
集群式
单体式
快速热处理（RTP）
