E5000发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析精准、稳定性好等优点，分析性能达到了国际领先水平。作为全球首创粉末样品元素分析的台式全谱直读发射光谱仪，E5000发射光谱仪拥有创新的高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术，同时，E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等先进技术，采用固体样品直接进样的方法，全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题，是光谱元素分析领域的重大突破。
E5000发射光谱仪产品结构设计
●电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合，新一代固体粉末分析技术
● Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统，能测定需要分析的所有常规元素
●紧凑的小型台式设计，确保稳定可靠、易用便捷
●防溢出CCD高速数采系统，信噪比高、动态范围大
●高功率数控可编程光源，电流、电压、频率可控，提供更优的分¤析方法
●多重连锁和监控，确保操作安全可⌒ 靠
●全自动电极激光对准系统
●粉末样品直接进样，方便迅速
●一键激发，立刻获得分析结果
●内置工作曲线，客户无需手动建线，切实提高工作效率
●软件开放所有高级功能，为客户①提供完美的方法开发平台
E5000发射光谱仪全谱测量技术
●全谱平台拥有丰富的谱线信息，更易于元素扩展与方法开发
●基于全谱测量的数据，能够正确区分背景和谱线，有效提高测量精度
- 方便查看谱线及干扰情况
- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
●强大的自动谱线去干扰算法
- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线
- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开，有效消除谱线的干扰
●根据元素的含量范围选择不同的分析谱线，大含量范围的测量更准确
- 多谱线结合，扩展分析范围的同时，有效保证分析精度
- 避免灵敏线饱和，不需要消释样品，取得更大的分析范围
背景扣除 多峰拟合 适配曲线
CCD高速数采系统
●防溢出♀线阵CCD
●采用动态积分，有效扩展CCD的动态范围
蓝线-CCD谱线 红线-PMT谱线
Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统
● 恒温型全固定光学系统
● 全反射式光路
● 光︻室结构紧凑
● 一体式固定
● 光学器件少，性能稳定
● 基于CCD的全谱采集和分析
全新一代电弧数控光源
●数控光源体积小、效率高
●基于数控可编程技术，光源的电流、电压、频率可调节
●分析不同含量的元素，选择最佳的激发参数，降低元素分析的检出线，改善元素分析的准确度
●可设置及读取不同检测阶段的数据
一键激发及全自动对准电极
●样品装载激发一气呵成，方便快捷
●多元素同时分析，直接得到最终结果
●设计精良的电极挟持旋钮
●红外激光对准、先进的电极激光自动对准技术
●水冷电极夹提高检测稳定性
多重连锁和安全保护
●可靠的水冷系统，分别对电弧光源和激发电极散热
●实时监控仪器的▽运行状态，所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒
●界面上有关键温度的显示，第一时间查看仪器的运行情况
●排风监控，消除废气㊣影响
●特殊的风道设计提高稳定性
水冷系统 卓越的温度稳定性
强大的分析软件
●便捷易用的←分析软件
- 操作直观、便捷、层次化的软件界面，非专业人员也能方便操作
- 简单的方法开发过程，各种检测条件都可调节
软件界面
●强大的多元素分析平台
- 便捷的全谱查看
- 多元素分析及多谱线选择
- 一键激发，直接在软件上得到分析结果
- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护♂
可分析元素及多谱线选择
●全面智能的软件算法
- 内置工作曲线，完善的时序分析，能够实现定性、定量分析
- 丰富的处理技术，支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法
- 功能强大的高级处理功能，为客户带来更全面、更精确的分析体验
E5000发射光谱仪内置∑工作曲线及基底扣除
● 独创的智能漂移校正技术
利用全谱丰富的谱线信息，自动完成仪器校正，使得√分析数据更稳定
漂移㊣ 校正前后对比图
