品牌：HUMGINE
型号：HMDS-6210
材质：316L不锈钢
温度范围：室温+10--250（℃）
工作室尺寸：560*640*600（mm）
重量：200（kg）
产品型号：HMDS-6210 HMDS预处理系统
产品特点：
1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈」钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门↓观察工作室内物体一目了然。
2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。
3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。
4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块◣可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。
5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。
6、整个系统采用优质材料制造◤，无发尘材∴料，适用100 级光刻间净化环境。
产品技术参数：
电源电压：AC 380V±10%/50Hz±2%
输入功率：4000W
控温范围：室温+10℃-250℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：±0.5℃
达到真空度：133Pa
容积：210L
工作室尺寸（mm）：560*640*600
外形尺寸（mm）：720*820*1750
载物托架：3块
时间单位：分钟
真空泵：国内最好品牌，上海“慕鸿”型号：DM-4，旋片式油■泵。
HMDS预处理系统的必要性：
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到№光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留▃的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基▲二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅■片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用→。
HMDS-6000系列预处理系统的原理：
HMDS-6000预处理系统通过对烘〗箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附▓性。
HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：
首先确定烘箱工作温＠度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气◎的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次〗开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入︾保持阶段，使硅片充♀分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先◥加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。
尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽█出，排放到↑专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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