CVD涂层设备
型号：非标
一、设备用途
CVD涂层设备主要用于材料表面改性技术，在一定温度下混合气体与工件表面相互作用，使混合气体中某些成分分卐解，并在工作表面形成一种金属或化合物固态薄膜或镀层。
CVD涂层设备可以利用气相间的反应，在不改变工作基体材∏料的成分和不削弱基体材料强度的条件下，赋予工作表面一些特殊的功能特性（如超高光洁度、超硬性、超耐磨性、耐高︽温同时还具有韧性）。
二、主要技术指标
1、额定功率：30KW；
2、最高温度：1200℃；
3、长期使用温度：1150℃；
4、极限真空：7×10-4Pa；
5、控温及监测：三点监、控；
6、氢气流量：0-30L/min；
7、氮气流量：0-100L/min；
8、甲烷流量：0-10L/min；
9、充气压力：≥0.05MPa
10、蒸发罐容积：10L
