XBS MBE 沉积速率监控/控制系统
Hiden XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System)，适于精确▆的MBE分析，其他气体分析和科学实验使用。
应用：
· MBE 监测和控制
· 分子束研究
· 多束源分析
· 高性能残余气体研究
· 脱附 / 除气研究/烘烤周期
· 容器、过程气体污染物分析
特点：
· 灵敏度高, 检测范围从100% 至5ppb,质量数范围至510amu
· 长期稳定性(24h以上，峰高变化小于【±0.5%)
· 交叉离∩子源,束接收角同轴的横断∴面呈 ±35°
· 离子源控制，用于软离子化和表观电势质谱
· 灵敏度增强用于大质量数的传输，自动质量数卐范围列表
· 2mm 束接受孔， 也可为特殊使用者配置
· 一级过滤处增加射频，抗污※染物能力增强
· 内置UHV 兼容→的水冷却罩
· 分子束研究中，检测极限低至30 ions/s
· 监测⊙生长速率1Å / min，或更低
· Windows™ 界面的MASsoft软件通过RS232、RS485 或以太网控制
