UVIKON系列

• UVIKON XS型

  技术特点 100%的对称实时双光束技术，确保高的数据精度和稳定性 旋镜（切光器）技术，即使在浓的样品测定时仍能获得可靠的数据

  光学设计 业已验证的对称实时双光束技术，每束光只经6个反射面。 高能量ZeissTM光学系统，使用全息炫耀光栅，刻线1300条/nm 高灵敏度光电二极管检测器，与旋转切光器相结合，保证样品与参比光束能量皆为100%，同时提供暗电流校正。 光源基座与整个光◆学基座热绝缘，并与整个分光计系统相隔离，不会受氘灯所产生的臭氧所沾污。 高超︼的制造工艺，保证光学基座每米误差仅为0.01mm 整个光学系统完全密闭，避免受大气中尘埃和样品中挥发溶剂的沾污。

  独特→的样品室 332mm x 162mm x 140mm的大样品室，测量/参比光束相间120mm 前顶盖和后盖可快速拆卸，维护非╱常方便 附件的三点定位设计，保证高的结果重复性※ 在样品室的光束入射和出射口均石英窗保护，确保光学系统免遭污染

• UVIKON XL型

  技术特点 可变狭缝，获得更高的光谱分辨率 光电『倍增管检测器，更高的灵敏度和线性度

  光学设计 业已验证的对称实时双光束技术，每束光只经6个反射面。 高能量ZeissTM光学系统，使用全息炫耀光栅，刻线1300条/nm。 高灵敏光电倍增管R955检测器，与旋转切光器相结合，保证样品与参比光束能量皆为100%，同时提供暗电流校正。 光源基座与整个光学基座热绝缘，并与整个分光计系统相隔离，不会受氘灯所产生的臭氧所沾污。 高超的制造工艺，保证光学基座每米误差仅为0.01mm。 整个光学系统完全密闭，避免受大气中尘埃和样品中挥发溶剂的沾污。

  独特的样品室 前顶盖和后盖可快速拆卸，维护非常方便 附件的三点定位设计，保证高的结果重复性 在样品室的光束入射和出射口均石英窗保护，确保光学系统免遭污染

• 可变狭缝，获得更高的光谱分辨率
• 光电倍增管检测器，更高的灵敏度和线性度
• 332mm x 162mm x 140mm的大样品室，测量/参比光束相间120mm
• 前顶盖和后盖可快速拆卸，维护非常方便
• 附件的三点定位设计，保证高的结果重复性
• 在样品室的光束入射和出射口均石英窗保护，确保光学系统免遭污染