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                Q150T新型触摸屏高真空一体化镀膜仪

                Q150T新型触摸屏高真空一体化镀膜仪
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                ts-13 (Q150T)
                南∏京覃思科技有限公司
                江苏
                详细说明

                仪器介绍:


                Q150T系列:涡轮泵高真空镀膜仪,可进行高性能精细颗粒镀膜,适合场发射电镜制样应用以及制作无定形碳覆形膜及TEM栅网支持膜。基于内部安装的涡轮分子泵抽真空平台,Q150T具№有三种版本/型号的镀膜仪:溅射、蒸发镀碳和溅射/蒸镀。在运用最新科技整体成型的机箱上,设有彩色触摸屏,可允许多用户输入和贮存镀膜方案。在同一个易使用系统中,根据所选择的配置,Q150T可以是一台最具水准的离子溅射镀膜仪用于高分辨扫描电镜(SEM)制样,也可以是一台适合SEM或透射电镜(TEM)应用的▲蒸发镀碳仪,或者是一台兼具溅射和蒸镀两功←能的一体化镀膜仪。Q150T具有快速溅射易氧化和不氧化金属靶材的宽可选范围的能力,使其也成为许多金属薄膜研究及▃电极的应用等材料科学领域的一个理想镀膜平台。

                高↓真空性能
                Q150T装在一个坚固的特制整→体成型机壳中,它容纳了所有工作部件,包括空气冷却的涡轮分子泵。自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空条件〓。真空腔室带有防⌒ 爆安全罩。Q150T含有的“真空闭锁”允许在不用↓设备时维持腔室真空,从而改善真空性能。

                Q150T系列三种型号
                Q150TS:高分辨率磁控离子溅射镀膜仪,可溅射易氧化及ξ 不氧化金属(贵金属)。可选各种溅射靶材,包括常用于场发射电卐镜的铱和铬。
                Q150TE:高真空▽热蒸发镀碳仪,可制作高稳『定性的碳膜和表面覆形膜,对透射电镜(TEM)的应用非常理想。
                Q150TES:集合了溅射和蒸镀两种沉积镀膜功能的◇镀膜系统,沉积镀膜头可在数秒内快速更⌒ 换,智能逻辑系统自动识别出所装的镀膜头类型,并显示相应的操作设置。
                上述每个型号还可选配一系列可选附件,如:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚︼测量等。

                触摸屏控制
                Q150T的操作核心为简单的触摸屏,即使最不熟练的或偶而使用的操作者,仪器也能使其快速键入和贮存∮自己的处理数据。程序中已贮存了各种典型溅射及蒸发镀膜的参数资料,以便提供进一步的易操作帮∩助。

                镀膜头选项
                具有一系列ㄨ可互换、即插即用的镀膜头:
                溅射头,可使用易氧化及非氧化金属两大类宽范围靶材;并可用另外的溅射头来快速▅更换镀膜材料(仅为TS及TES版本)
                碳棒蒸发头
                碳丝蒸发头
                金属蒸发/光阑清洁头,包括向上蒸发或向下蒸发两种蒸发方式(仅为TE和TES版本)

                样品台选项
                Q150T具有各种样品台以满足大部分的应用。所有的样品台更换容易,drop-in式样(无需螺钉)并且高度∞可调(除旋ぷ转行星台)。标准配置为旋转台,可选:
                可预设倾斜角度的旋转台
                可变角度旋转行星台
                用于4”晶圆→的平面旋转台
                用于显微镜载玻片的样品台

                其它选项
                用于高样品的加高腔室
                膜厚监测附件(FTM)
                用于测∩量低和高真空的全范围真空计

                Q150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级※的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面,让用户真正领略至臻完美的@ 镀膜品质!

                特点和优点:
                ● 金属溅射或碳蒸发或两者兼备:一体化设计,节约空间
                ● 精细颗粒溅射:高分辨率场发射扫描电镜(FE-SEM)制样的精细镀膜应用
                ● 涡轮分子泵高真空系统:允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜,大大拓宽了可溅射靶材范围,既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用,也为许多薄膜︻应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台
                ● 全自动触摸屏控制:快速数据输入,简单操作
                ● 可储存多个客◤户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想
                ● 与□ 镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动◥真空控制
                ● 精△细的厚度控制:使用膜厚监控选项
                ● “智能”式系统识别:自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型
                ● 高真空ω碳蒸镀:对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想
                ● 蒸发电流波形控制
                ● Drop-in落入式快换样品台(标配》旋转台)
                ● 真空闭锁功能:可让工作腔室处于真空状态①,改善后续真▲空效果,或在真空条件下保存样品
                ● 镀制厚膜能力:一次真空条件下的溅射时々间可长达60分钟(材料科研领域的应用)
                ● 人体工程学设计的整体成型机壳:易维护和易拆装
                ● 带有本地FTP服务器连接的以太网端口◆:简单的◥程序更新
                ● 设有功率因素补偿,有效利用电能,降低运行成本
                ● 符合当前电器法规(CE认证)

                主要技术↑指标:
                ● 工作腔室:150mm内径 x 127mm高
                ● 触摸屏全图像用户界面
                ● 样品台:标配旋转台
                ● 真空系统:
                涡轮分子泵:带有空气冷却的涡轮分子泵
                旋转机械泵:双级旋转机械泵
                ● 溅射电流:0-150mA;可预设膜厚(需FTM选项)或使用『内置定时器
                ● 溅射时间:最长60分钟
                ● 碳蒸发:稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。
                ● 金属蒸发/光阑清洁头:用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。
                ● 尺寸和重量:仪器机箱:585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm)
                ● 仪器总重量:33.4Kg

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