本款真空气氛炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅ζ　控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速◇升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢▅气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度①低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。