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                化学¤气相沉积设备

                  摘要:本实用新型涉及高熔∏点金属(难熔金属及贵金属)化学气相沉积制备所用的︽专用设备。设备由3部分组成:(一)主体结构;(二)动力传动装置;(三)气体调配系统。主体部分结构由5个功能部件组成,分别为:沉积室(I),密封室(II),蜗轮箱(III),升降操纵箱(IV),热ζ电势信号接转装置(V)。本实用新型在于实现基体沉积件在高温、高真空或多种气氛(氩气、氧气、氯气、一氧化碳以及甲烷等)条件下,按设定参数进行材料的√沉积,基体可进行轴向∑ 圆周、螺旋以及自动循环运动。输入温度、气氛压力和流☆量均可精确控制。所制备的难熔金属▼和贵金属材料的致密性达到或接近理论密度,硬度(耐磨性)超过熔铸和粉末冶金法生产的同类材料。
                • 专利类型实用新型
                • 申请人贵研铂业股份有限公司;
                • 发明人胡昌义;雷春明;毛勇;郭锦新;李靖华;周世平;徐云;王云;欧阳远良;
                • 地址650221云南省昆明市二环北路核桃箐
                • 申请号CN200520022499.2
                • 申请时间2005年06月06日
                • 申请公布◎号CN2851277Y
                • 申请公布【时间2006年12月27日
                • 分类号C23C16/44(2006.01);C23C16/455(2006.01);C23C16/46(2006.01);C23C16/458(2006.01);