摘要：本实用新型公开了一种喷涂机构，所述喷涂机构包括固定部、可沿所述固定部移动的支撑部以及设于所述支撑部上的喷涂部，所述◎支撑部用于支撑所述喷涂部并调节所述喷涂部与待喷涂物之间的距离；所述喷涂部包括可沿所述支撑部移动的调节块、固定于所述调节块上的喷嘴以及用于控制所述喷嘴开关的控制部，所述调节块◥用于调整所述喷嘴对应所述待喷涂物上的喷涂位置。本实用新型提供的喷涂机构，可以实现对喷涂剂的喷涂量控制，而有▂效的减少喷涂剂的用量，从而避免喷涂剂的浪费。
- 专利类型实用新型
- 申请人武汉三工光电设备制造有限公司;
- 发明人何成鹏;
- 地址430000 湖北∩省武汉市东湖新技术开发区黄龙山北路4号
- 申请号CN201420534844.X
- 申请时间2014年09月17日
- 申请公布号CN204074350U
- 申请公布时＠ 间2015年01月07日
- 分类号B05B13/02(2006.01)I;B05B12/00(2006.01)I;B05B15/06(2006.01)I;
