摘要：一种大尺寸光栅制造设备，属于高精度自动化刻蚀设备技术领域。X轴直线电机驱动被加工工件以极低速连续运动或纳米级定位运行，Z轴直线电机驱动化学涂胶或光刻处理盒运动，调节化学涂胶或光刻处理盒与被加工工件之间的距离。整机振动频率在10Hz以下，消除了设备自身振动及环境的振动噪声影响。被加工工件以极低速平稳运行时，CNC数控装置控制化学涂胶或光刻处理盒进行高质量连续均匀地镀膜。直线电机驱动被加工工件以纳米级定位精度极低速运行时，CNC数控装置控制化学涂胶或光刻蚀处理盒进行激光直写式或小尺寸激光干涉式刻★蚀工作，在被加工工件的加工面刻蚀出高质量高密■度的周期性纳米沟槽。本实用新型结构①简单，提高了大尺寸微纳米结构的制造效率。
- 专利类型实用新型
- 申请人嘉兴华嶺机电设备有限公司;
- 发明人伍鹏;
- 地址314006 浙江省嘉兴市凌公塘路3339号6号楼1楼
- 申请号CN201320837321.8
- 申请时间2013年12月17日
- 申请公布号CN203630384U
- 申请公◎布时间2014年06月04日
- 分类号G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B23K26/362(2014.01)I;
