摘要：本实用新型公开了一种等位近距离薄膜沉积生长系统，它包括箱体，箱体上设有炉体，炉体两端设有支撑杆，炉体的下端设有下法兰，下法兰上端通过下加热台支撑架固定连接有下加热台，下加热台上设有载物台，炉体的上端设有上外接法兰，上外接法兰下端通过上加热台支撑架固定连接有上加热台，所述的支撑杆上设有旋转支撑架，该旋转支撑架包括转动连接在支撑杆上的固定座和固定螺栓，该固定座和固定螺栓之间垂直设有导向杆，导向杆上滑动连接一升降杆，升降杆与上外接法兰固定连接；本实用新型一种等位近距离薄膜沉积生长系统，它结构简单，操作便捷，可以实现等位沉积，准确控制基片正反面温场，解决了分子漂移扩散损耗问题，和长距离的温度线性不稳定等问题，同时可以实现快速升降温，节约了工时功效。
- 专利类型实用新型
- 申请人安徽贝意克设备技术有限公司;
- 发明人孔令杰;
- 地址230041 安徽省合肥市庐阳区濉溪路312号
- 申请号CN201320213916.6
- 申请时间2013年04月25日
- 申请公布号CN203373416U
- 申请公布时间2014年01月01日
- 分类号C23C14/24(2006.01)I;
