摘要：本实用新型涉及一种激光照排设备的下片缓存系统，激光照排设●备包括激光照排机和设于其出片口外侧的对接装置，下片缓存系统包括配合设置的下片缓存机构和下片缓存电路，下片缓存电路包括电源模块及♀与电源模块分别连接的控制模块、翻板检测模块、胶片检测模块和运算模块，翻板检测模块、胶片检测模块分别与运算模块和控制模块顺次连接；下片缓存机构包括配合设置的胶片存储装置和胶片检测装置，胶片存储装置设于激光照排机出片口内侧，胶片检测装置设于对接装置上；翻板检测模块设于胶片存储装置上，胶片检测模块设于胶片检测装置上。本实用新型缩短出片过程中胶片与对接装置★的接触时间，胶片寿命增加，不易刮伤，工〓作效率高，出片快，节约成本。
- 专利类型实用新型
- 申请人杭州万德激光有限公司;
- 发明人杨松林;朱美娟;
- 地址310012 浙江省杭州市西湖区学院路83号617室
- 申请号CN201320172670.2
- 申请时间2013年04月09日
- 申请公〇布号CN203210823U
- 申请公布▲时间2013年09月25日
- 分类号B41B21/32(2006.01)I;B41B27/28(2006.01)I;
教育装备采购网在线客服
京公网安备11010802043465号
