摘要：本实用新型公开一种新型的传感器真空灌注设备，包括上真空室和下真空室，所述上真空室和下真空室之间通过隔板连接，隔板下表面设有加热板，还包括灌注阀、进液管和真空系统，所述灌注阀设置于加热板下表面，并将上真空室和下真空室连通，上真空室上表面设有电〓机，上真空室内表面设有搅拌装置，所述电机与搅拌装置连接，所述进液管◣穿过下真空室外壁，并与上真空室连通，进液管上安装有加液阀，下真空室底面紧贴内侧壁设有底板，底板Ψ下表面设有升降机构。本实用新型在真空条件下对液态介质搅拌处理，使得〖所含水分及气体迅速彻底地被排除；净化后的液态介质长期保持在真空条件下，只更换被灌∩器件，大幅度提高了工作效率。
- 专利类型实用新型
- 申请人成都无极真空科技有限公司;
- 发明人葛明;
- 地址610073 四川省成都市青羊区文家乡蛟龙工业港A区-2座
- 申请号CN201320211557.0
- 申请时间2013年04月24日
- 申请ζ公布号CN203190991U
- 申请公〗布时间2013年09月11日
- 分类号G01D21/00(2006.01)I;
