摘要：本实用新型涉及半导体晶圆制造领域，公开了一种超洁净微环境装置，包括装置本体、风机、气孔层和过滤板，所述气孔层上布置有多个气孔，所述风机设置在所述装置本体内部的侧壁上，所述气孔层设置在所述装置本体的内部，所述过滤板设置在所述装置本体的底面上。本实用新型将风机设置于装置本体的侧面，使得进风方式为侧面进风，因此装置适合于在双层或多层工艺腔室半导体晶圆制造设备中使用；通过特殊的气孔形状及⊙排布设计，使得装置能够为半导体晶圆制∮造设备提供稳定、均匀的垂直层流。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人赵宏宇;吴仪;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层
- 申请号CN201120382492.7
- 申请时间2011年10月10日
- 申请公布号CN202363428U
- 申请公布时间2012年08月01日
- 分类号H01L21/67(2006.01)I;B01D46/10(2006.01)I;B01D46/42(2006.01)I;
