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                磁共振成像用的自屏蔽梯度线圈

                  摘要:本实用新型属于磁共振成像技术领域,具体涉及一种用于磁共振成像用的自屏蔽梯度线圈。自屏蔽梯度线圈位于磁共振成像系统的永磁体极靴之间,自屏蔽梯度线圈的内部为成像空间。所述自屏蔽梯度线】圈由从内到外依次排列的内屏蔽线圈、主梯度线圈和外◥屏蔽线圈三组线圈组成;其截面为类似草帽的sinc函数波浪形特形曲面,定义接近永磁体极靴的面为峰点,接近成像空间的面为谷点ぷ;主梯度线圈置于峰点附近,内屏蔽线圈和外屏蔽线圈置于谷点处;主梯度线圈●为顺时针旋转,内屏蔽线圈和外屏蔽线圈为逆时针旋转。本实用新型的梯度线圈具有如下特性:高空间利用效率√(80%-95%)、高线性度(非线性0.7%-0.02%)和自屏蔽性(响应时间10μS-110μS)。
                • 专利类型实用新型
                • 申请人上海寰彤科教设备有限公司;
                • 发明人谢寰彤;胡柱龙;胡敏敏;
                • 地址201806 上海市嘉定区汇仁路1500号2幢1车间
                • 申请号CN201120325257.6
                • 申请时间2011年09月01日
                • 申请公▽布号CN202189140U
                • 申请公布时间2012年04月11日
                • 分类号G01R33/385(2006.01)I;