摘要：本发明属于金属制品表面处理领域，特别涉及一种提高难熔金属制品发射率的处理方法，该方法通过预处理后的难熔金属基体材料的表面进行等离子体喷涂处理和热处理，提高难熔金属制品的发射率。本发明在使金属基体材料与金属涂层具有良好的结合，可提高材料的发射率；对喷涂后的制品进行热处理，消除内应力，并进一步提高涂层附着力。各个步骤间协同作用，并选用适当的参数，共同提高了产品质量：提高了难熔金属制品发射率，加强了涂层和基体间的结合力。
- 专利类型发明专利
- 申请人安泰科技股份有限〒公司;
- 发明人薛前进;熊宁;姚惠龙;弓艳飞;陈福鸽;付立伟;段澎;
- 地址100081 北京市海淀区学院南路76号
- 申请号CN201410710772.4
- 申请时间2014年11月28日
- 申请公布号CN105695919A
- 申请公布时间2016年06月22日
- 分类号C23C4/12(2006.01)I;C23C4/06(2006.01)I;C23C4/18(2006.01)I;
