摘要：在影响有机电子器件性能的诸多因素中，界面性质对整个器件的性能有着至关重要的影响。本发明合成一系列马来酰亚胺基三乙氧基硅烷化合物，利用自组装方◎法在氧化物衬底表面制备一层单分子膜，从而实现对衬底的修饰。采用〗双环戊二烯氯化铂为催化剂进行硅氢加成，核磁进行表征，实验结果表明该催化剂对带氨基基团的化合物能进行高效催化加成，且加成后硅乙氧基上的硅◣与加成前双键的端基位置相连接。利用自组装的ㄨ方式在衬底表面形成一层单分子膜，采用杨氏接触角仪及XPS进行表征，结果表明在衬底表╱面形成了一层平整的单分子膜。
- 专利类型发明专利
- 申请人南京工业大学;
- 发明人高德青;郑朝月;陈乃武;朱杰;黄维;
- 地址211800 江苏省南京市浦口区浦珠南路30号
- 申请号CN201510407528.5
- 申请时间2015年07月10日
- 申＠ 请公布号CN105131027A
- 申请公布时间2015年12月09日
- 分类号C07F7/18(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
