摘要：本发明公开了一种低辐射薄膜，包括基底、覆盖于基底之上的单银层和覆盖于单银层之上的周期性多层膜，薄膜厚度为1325nm～1575.8nm；其中，单银层由两层保护层和Ag膜构成，厚度为29nm～92nm；周期性多层膜由高折射率材料和低折射率材料交替叠加而成，厚度为1275nm～1490nm。本发明公开的低辐射薄膜采用金属薄银层来抑制长波长红外波和短波长紫外波的透射，采用周期性结构来→增强可见光波段的透射；对可见光的透射率达到70～96％，对紫外波段的透射率降低〓到15％、对780nm～1200nm红外波︽段的透射率降低到10％以下、对1200nm～3000nm红外波段的透射率降低到25％以下，层数显著降〓低，很大程度上缩减了成本，简化了工艺流程。
- 专利类型发明专利
- 申请人华中科︻技大学;武汉伊美斯波谱技术有限公司;
- 发明人王鲜;祁冬;龚韦;龚荣洲;
- 地址430074 湖北省武汉市╲洪山区珞喻路1037号
- 申请号CN201510077005.9
- 申请时间2015年02月12日
- 申请公布号CN104608434A
- 申请→公布时间2015年05月13日
- 分类号B32B9/04(2006.01)I;B32B15/00(2006.01)I;
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