摘要：本发」明涉及领域，公开了一种光催化々反应系统的防护装置，包括箱体和光源支架，箱体包括箱体本体、上前舱门、下前舱门和后舱门，箱体本体具有上部空间和下部ω空间；上部空间分为密封层和操作层；密封层通过后舱门密封，用于安装光催化反应系统的系统主体；操ζ作层通过上前舱门密封，用于安装光催化反应系统的系统阀组；下部空间通过下前舱门密封，用于安装光催化反应系统的反应器；下前¤舱门设有光窗，光源支架安装在与光窗相对应的位置，用于安装光催化反应系统的光源；箱体上设有惰性气体充填机构，用于向密封层、操作层和下部空间充填惰性气体。可以为负压条件下进行的光催化反应系统提供稳定▼的反应及测试环境，减少环境对光催化反应及测试的影响。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京泊菲莱科技有限公司;
- 发明人刘晓霞;刘忠宝;刘彬;陈磊;李阵;
- 地址100039 北京市海←淀区永定路88号长银大厦11A08
- 申请号CN201410361314.4
- 申请时间2014年07月25日
- 申】请公布号CN104162396B
- 申请公布时间2016年01月13日
- 分类号B01J19/12(2006.01)I;
