摘要：本发明公开了金属化膜、生产●该金属化膜的镀膜机及应用在该镀膜机上的蒸镀金属化膜工艺，该金属化膜包括绝缘的薄膜层以及镀在该︽薄膜层上的金属镀层，该金属镀层呈曲线形态变化且包括边缘加厚的加厚区、呈N型正弦半波形变化的低阻区以及呈狭长条形的高阻区，该低阻区衔接该加厚区与该高阻区，且该低阻区与该加厚区以及该高阻区均采用弧形过渡。本发明的优点在于：可以使电容器用金属化膜方阻做到边缘加厚、活动区呈N型正弦半波形变化，使电容※器工作时介质表面电流密度分布均衡，达到抗涌流、低温升、抗老化的要求。
- 专利类型发明专利
- 申请人安徽赛福电子有限公司;
- 发明人周峰;曹骏骅;
- 地址244000 安徽省铜陵市西湖经济开发区
- 申请号CN201210321855.5
- 申请时间2012年09月04日
- 申请公◤布号CN102796985B
- 申请公◤布时间2014年10月29日
- 分类号C23C14/14(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;
