摘要：本发明公开了一种熔炼坩埚的真空负压自浇注装置，熔炼坩埚通过坩埚基座设置在固定法兰上，熔炼坩埚底部设有紫铜螺杆，紫铜螺杆的中心通孔连通到熔炼坩埚的底部；紫铜螺杆的下端头处，在固定法兰上设有负压腔，负压腔的下端口连接成型模具，成型模具上端口与紫铜螺杆的下端之间设有间隙，成型模具外套设有负压吸管，负压吸管通过固定法兰上的若干通孔与负压腔相连▅通。本发明从根本上解决了现有浇铸技术的不足，熔炼时负压腔与熔炼坩埚压力平衡，有着一定粘度的熔∞炼原料不会流到模具型腔内，浇铸时利用负压→吸管经通孔将与负压腔通过间隙连通♀的模具型腔吸成负压，熔炼原料在保护气体的压力下缓缓流进Ψ模具型腔，自动完成铸模工作。
- 专利类型发明专利
- 申请人杭州大华仪器制造有限公司;
- 发明人杨扬;方学锋;杨晓虎;夏民荣;郑捷;
- 地址311401 浙江省杭州市富阳市东山路23号
- 申请号CN201010106862.4
- 申请时间2010年02月08日
- 申请公布号CN101797635B
- 申请公布时间2012年04月18日
- 分类号B22D18/06(2006.01)I;
