摘要：一种平面反射式复眼冷光源曝光系统，属于光刻技术领域。包括：灯源组、多面镜组装置、反光镜组、曝光装置等，其特征在于，多面镜组装置，包括上层镜座、下层镜座，上层镜座紧密叠合于下层镜座上；上层镜座包括：上盘、上镜片压圈、上盘反光片，上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间，上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内；下层镜座结构类似上层镜座。反光镜组包括：小反光镜组、大反光镜组，小反光镜组、大反光镜组平行对峙放置，并与水平夹角为45°。一种光刻机，其特征在于，包括所述的带有平面反射式复眼冷光源曝光系统。本发明提出了多层反射镜的位置排列，大大提高了曝光均匀性，并拓展为更大的曝光面积。
- 专利类型发明专利
- 申请人上海学ζ泽光学机械有限公司;
- 发明人张岳方;
- 地址201108上海市闵行区老沪闵路1901号
- 申请号CN200810037366.0
- 申请时间2008年05月14日
- 申请公布号CN101349814A
- 申请公布时间ω 2009年01月21日
- 分类号G02B27/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);
