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                教育装备采购网
                第六届图书馆论坛580*60

                利用超高效合相色谱应对半导〇体行业先进光刻材料开发与供应所面临的挑战

                教育装备采购网 2012-11-06 10:26 围观1984次

                  利用ACQUITY UPC2应对半导体行业先进光刻材料(光刻胶)开发与供应所面临的挑战

                  目的

                  提供对配方产品的直接、准确和快速的分析。利用超高效合相色谱(ACQUITY UltraPerformance Convergence Chromatography™,UPC2™),以最少的样品制备对平板印刷品进行快速而直接的色谱分析。

                  背景

                  光刻材料,比如光刻胶和防反射涂层,是专门为电子业生产的配方型特种涂层。在高反射率衬底上处理时,这两种涂层经常结合使用,以尽量减少刻痕并控制线宽,从而改善图案转移。染色光刻胶则是将防反射涂层与光刻胶进行有机结合的统一体。该系列中的许多产品都采用芳香偶氮染料,如苏丹红(Sudan dyes)系列1,2,3。

                  由于染料分析、染料溶解性的不同以及其它制造偏差,因此需要进行产∮品分析,以便对染料浓度进行校准调节。目前的分析方法是对流延膜进行紫外测量,并进行功能评价,这样会产生没有特定组分信息的大量数值。因此,需要进行其它的功能测试,这样会增加制造周期,以及超过2,000美元/批次的〗测试成本。此外,通常采用正相HPLC检测来进行记入错误的批量校正。HPLC检测循环时间为12至24小时,涉及大量的样品制备,包括聚合物沉淀和过滤。

                  


                 

                  解决方案

                  该技术简报介绍了利用Waters® ACQUITY UPC2系统(基于超临界←流体色谱法的原理),进行配方产品的分析方法。最终的配方产品用四氢呋喃稀释10倍,装入样品瓶,然后直接进样-不需要大量的样品制备,如聚合物沉淀、过滤或冗长的系统平衡过程。

                  图2所示为混合标准溶液、空白非染色产品和带混合染料包的全制剂产品的色谱图。在不到2分钟的时间内,4种染料以及典型染料杂质,均得以基线分离。

                  
                 

                  采用基于混合染料标准品的外标校正法,可轻松实现产品中分析物的定量,如表1所示,是4种产品混合物的分析数据。参照目『标或配方产品分析,可提供产品中染料混合物的定量校准。

                  


                  三种测试混合物的中间试验表明,染料包的添加量过低。另外,对于每个产品中所混合的配方染料,分析突出了其中个别不成比例染料的含量。通过本分析方法可在比传统方法更短的时间内,对每个产品混合物进行配方校正,并直接反映出总染料含量以及相对染料比例。

                  总结

                  ■ 采用ACQUITY  UPC2系统,通过简单的稀释和分析流程,在不到2分钟时间里快速完成产品分析,为制造控制提供了及时的反馈。

                  ■ 单个染料被轻松定量,满足产品要求。

                  ■ 三种被测产品混合物分析,不仅轻易地测定了染料含量,还测定了个别染料不成比例的量。

                  ■采用ACQUITY  UPC2分析方法,可对生产批次加以调控,从而满足对单个组分的要求。

                  ■ ACQUITY  UPC2可直接根据产品生产校正的需要,提供近乎实时的测定,方便产品成分控制,帮助消除记入错误和产品溢出。

                  参考文献

                  1. R F Sinta, T F Zydowsky. Dyed photoresists and methods and articles of manufacture comprising same. European Patent no.EP 0930543A1.

                  2. M W Mongomery, C Hamaker. Sensitized chemically amplified photoresist for use in photomask fabrication and semiconductor processing. U.S. Patent no. 7067227B2.

                  3. A Zampini, P Trefonas, et al. Positive dye photoresist compositions with 2,4-bis(phenylazo)resorcinol.U.S. Patent no. 4983492.

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